一、紫表光洗濯的工作道理：
光洗濯技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在资料表表上的有机物质
，经过光洗濯后的资料表表能够达到"原子清洁度"。更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波
，拥有很高的能量
，倒剽些光子作用到被洗濯物体表表时
，由于大无数碳氢化合物对185nm波长的紫表光拥有较强的吸收能力
，并在吸收185nm波长的紫表光的能量后分化成离子、游离态原子、受激分子和中子
，这就是所谓光敏作用？掌械难跗肿釉谖樟185nm波长的紫表光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫表光 同样拥有强烈的吸收作用
，臭氧又分化为原子氧和氧气。其中原子氧是极活跃的,在它作用下
，物体表表上的碳和碳氢化合物的分化物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表表
，从而*断根了黏附在物体表表上的碳和有机传染物。
洗濯时
，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送
，上方装置低压水银灯产生紫表线照射。玻璃基板所累积紫表线能量愈多
，其表表水接触愈幼
，成反比关系。
通常STN-LCD造作过程中
，需要的玻璃基板累积紫表线能量为300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩色STN-LCD及彩色滤光片造作过程中
，要求的玻璃基板累积紫表线能量为600nj/cm2(253.7nm)。在TFT-LCD造作过程中
，除了低压水银灯产生臭氧洗濯玻璃表
，目前造程的主流是
，使用Excimer Lamp
，其172nm波长紫表线的高反映性质对玻璃的洗濯效能更好。
二、光洗濯的特点：
1、 是一种摳上磾方式
，可在空气中进行并且在洗濯后不用进行干燥。
2、可*断根物体表表的碳和有机传染物。
3、无溶剂挥发及拔除溶剂的处置问题。
4、保障产品的高靠得住性和高制品率。
5、产品表表洗濯处置的均匀度一致。
6、由于光洗濯是通过光敏、氧化反映去除物体表表的碳和有机化合物
，所以容易产生氧化的表表不宜用光洗濯步骤
，只适对表表污垢洗濯、不适对污垢量较多
，无机类污垢洗濯。
三、光洗濯的技术利用领域：
重要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精杜住造电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属资料等出产过程当选取光洗濯步骤zui为相宜。
重要资料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密洗濯处置。
能够去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂增长剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、光滑油、残存的光刻胶等。
此UV光源在LCD工艺中又拥有UV改质(紫表光表表质变)的特点
，目前在液晶显示器STN的出产过程中
，重要是用在膜处置技术上
，对于改善膜与膜之间的密接是极度有效的
，如ITO膜与感光胶膜层
，TOP涂层与PI涂层等等。另在钻研部门又可用来UV改性塑料资料产品
，用于纳米技术钻研
，产品经此UV光照射产生化学反映
，使产品表表性质扭转。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的造作过程中
，有些造程设备相当雷同
，差距在于造作工艺要求的分歧。随着线路的精密化及产品的彩色比
，LCD产业对造作工艺的要求也不休地提升
，而有"工欲善其事
，必先利其器"之需要
，因而只有设备能力不休地精进
，能力提逾越产的质量与效能。